晶片界无间道！揭密中国卧底人才战术 从GPU到EUV步步前进

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2025/12/23 中时新闻网 邱怡萱


中国正建造EUV原型机，朝向晶片自主化。（示意图：shutterstock/达志）


外媒报导指出，中国已成功生产EUV（极紫外光曝光机）原型机，其中关键人物之一，是前ASML研究部陆籍员工林楠。除林楠外，前辉达员工张建中、前超微员工陈维良也同样是大陆人，并在离职后分别创立被称为「陆版辉达」的摩尔线程，以及「陆版超微」的沐曦公司，让外界关注大陆在半导体领域的人才布局与战术。


揭开中国晶片突围战法
林楠曾任职于ASML研究部，后于2021年返陆后加入上海光机所，短短18个月内便申请8项与EUV相关的技术专利，2025年10月，他离开上海光机所，转往北京航空航太大学积体电路科学与工程学院任教，目前正主导EUV光源研发的核心计画。外媒分析认为，林楠凭藉过往在ASML累积的经验与技术，协助大陆团队强化光刻机基础能力，并透过自主研发与专利布局，为大陆在EUV光刻领域的长期发展奠定基础。

张建中曾任辉达全球副总裁、前中国区总经理，在辉达服务长达15年，并被视为辉达执行长黄仁勋高度倚重的人才之一。然而，他选择放弃美国优渥的薪资与稳定生活，回到大陆投入本土半导体发展，2020年10月，张建中创立摩尔线程，专注于GPU与AI加速晶片研发，成为近年大陆半导体产业中备受关注的新创公司。

陈维良的发展轨迹则与张建中相当相似。他在超微任职长达14年，曾担任高阶主管，却辞职于2020年9月创立沐曦公司，转而投入全端GPU与运算平台的研发。沐曦目前已成为大陆少数能实现千卡丛集大规模商业化应用的GPU供应商之一。